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SZT-H型金属质量电阻率测试台
苏州晶格电子有限公司自主研发生产SZT-H型测试台,金属质量电阻率测试台,薄膜方块电阻测试台,导电橡胶片电阻率测试台
苏州晶格电子有限公司自主研发生产SZT-H型测试台,金属质量电阻率测试台,薄膜方块电阻测试台,导电橡胶片电阻率测试台
产品类别: SZT-H型金属质量电阻率测试台
上架时间: 2013/5/2 16:10:53
浏览次数: 42635
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产品详细
一 、功能与结构特征概述
基本功能:SZT-H型金属质量电阻率测试台 配以四探针仪器构成成套测试系统,是运用四端子测量原理的专业测量金属箔类(质量)电阻率/方阻的多用途综合测量装置。(以下简称测试台)
基本组成:测试台测试电极组、升降台、支架、连接线缆等部件组成。
配套与兼容:本测试台兼容本公司所有台式四探针测试仪器。本测试台可兼容国内同行绝大多数四探针电阻率/方阻测试仪器。
优势特征:SZT-H质量电阻率测试台符合国标《GB/T 5230-1995》中对金属箔类质量电阻率测试要求,测试电极采用铜质刀架制成,故定位准确、游移率小、接触良好;测试结果由数字表头直接显示。仪器具有测量精度高、灵敏度高、稳定性好、智能化程度高、结构紧凑、测量简便等特点。
仪器适用于金属薄膜材料厂、半导体薄膜材料厂、橡塑材料厂、电容器厂、科研单位、高等院校等对半导体或金属薄膜材料的方阻、电阻率性能的测试。特别适用于要求快速测量中低方阻及要求结果分选的场合。
二、技术参数(配ST2258A型多功能数字式四探针测试仪)
2.1 测量范围、分辨率(有所配仪器决定)
(1)方阻测试范围*(以配SZT-H测试台为例)
测量膜宽:1mm≤B≤50mm
基本方阻测量值:1.0×10-6 ~1.2×103 Ω/□,分辨率:1.0×10-7 ~1.0×100 Ω/□。
具体膜宽w与测量范围关系见图2-1A。
(2)电阻率测试范围(以配SZT-H测试台为例)
(厚度d<10mm,宽w<50mm)
基本电阻率测量值: 1.0×10-6 ~ 1.2×103 Ω*cm,分辨率:1.0×10-7 ~ 1.0×100 Ω*cm。
具体截面s与测量范围关系见图2-1B。
2.2 SZT-H测试刀架:
⑴电压刀片间距:150mm±0.2% ,刀刃长60mm
⑵电流刀片间距: 300mm,刀刃长60mm
⑶测试台架外型尺寸:360×200×240(长×宽×高)
查看《SZT-H金属质量电阻率测试台技术使用说明书》
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